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- / 聚勢上海！優(yōu)尼康/翌穎科技贊助第3屆光掩模與光刻膠技術(shù)論壇，特邀報告帶您深度解讀膜厚測量技術(shù)行業(yè)內(nèi)的應(yīng)用
第3屆光掩模與光刻膠技術(shù)論壇將于4月24日在上海浦東張江維景國際酒店3 樓睿景廳開幕，本次論壇將主要聚焦在高數(shù)值孔徑極紫外（High-NA EUV）光刻、納米壓印光刻、電子束光刻、定向自組裝（DSA）和X射線光刻等。這些技術(shù)旨在提升分辨率、降低成本并提高產(chǎn)量。
作為深耕精密測量領(lǐng)域15 載的行業(yè)標(biāo)桿，優(yōu)尼康/ 翌穎科技 榮膺本次論壇贊助商。優(yōu)尼康累計服務(wù)客戶已超 2000 家，我們期待在會場與您交流，共話半導(dǎo)體測量技術(shù)的創(chuàng)新未來。
特別邀請優(yōu)尼康/翌穎資深應(yīng)用技術(shù)經(jīng)理陸偉發(fā)表主題演講。他將深挖光掩膜與光刻膠工藝中的核心量測痛點，分享測量技術(shù)如何精準(zhǔn)把控工藝關(guān)鍵點。
報告主題：
《把控膜之關(guān)鍵：優(yōu)尼康薄膜測量技術(shù)在光掩膜及光刻膠工藝中的應(yīng)用》
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精密薄膜測量專家
優(yōu)尼康科技有限公司 ｜ 翌穎科技（上海）有限公司
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會議時間：
2026年4月24日
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展會地點：
上海·浦東張江維景國際酒店3 樓睿景廳
現(xiàn)場特邀報告
演講人介紹
陸偉 ｜優(yōu)尼康/翌穎科技 應(yīng)用技術(shù)經(jīng)理
擁有多年半導(dǎo)體及薄膜測量行業(yè)背景，專注于化合物材料測量應(yīng)用及半導(dǎo)體工藝全流程優(yōu)化。在設(shè)備端突發(fā)問題處理及量測技術(shù)創(chuàng)新方面具備極強的實戰(zhàn)功底。多次參加國內(nèi)薄膜檢測技術(shù)研討會，與同行交流，拓展視野，也為公司引入了新的理念和技術(shù)資源。確保檢測設(shè)備從應(yīng)用開發(fā)到客戶使用的全流程順暢銜接，通過技術(shù)賦能驅(qū)動半導(dǎo)體檢測設(shè)備的價值最大化，為提升公司整體競爭力添磚加瓦。
演講報告題目
把控膜之關(guān)鍵：優(yōu)尼康薄膜測量技術(shù)在光掩膜及光刻膠工藝中的應(yīng)用
報告時間：
4月24日 15:15
會議議程
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Filmetrics F20 單點便攜式膜厚儀 | ||
無論您是想要知道薄膜厚度、光學(xué)常數(shù)，還是想要知道材料的反射率和透過率，F(xiàn)20都能滿足您的需要。僅需花費幾分鐘完成安裝，通過USB連接電腦，設(shè)備就可以在數(shù)秒內(nèi)得到測量結(jié)果。基于某模塊化設(shè)計的特點，F(xiàn)20適用于各種應(yīng)用。 | ||
相關(guān)應(yīng)用：光刻膠、工藝薄膜、介電材料、硬涂層、Parylene、抗反射層、醫(yī)療設(shè)備、OLED、玻璃厚度、ITO與其他TCO。 |
 Filmetrics F50 自動Mapping膜厚儀 | ||
F50可以非常簡單地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜厚度分布圖。采用r-θ 極坐標(biāo)移動平臺，可以快速定位所需的測試點并且實時獲得測試厚度，大約每秒測試兩點。 | ||
相關(guān)應(yīng)用：半導(dǎo)體制造（光刻膠、氧化物/氮化物/SOI、晶圓背面研磨）；LCD 液晶顯示器（聚酰亞胺、ITO 透明導(dǎo)電膜）；光學(xué)鍍膜（硬涂層、抗反射層）；MEMS 微機電系統(tǒng)（光刻膠、硅系膜層）。 |
優(yōu)尼康公眾號
售后服務(wù)支持
