Filmetrics F50 自動(dòng)Mapping膜厚儀
全自動(dòng)薄膜厚度Mapping系統(tǒng)——極坐標(biāo)定位，每秒2點(diǎn)，可視化2D/3D厚度分布圖
5nm～2mm 厚度測(cè)量范圍 | 0.02nm 測(cè)量精度 | 2點(diǎn)/秒 掃描速度 | 450mm 最大樣品直徑 |
產(chǎn)品介紹
Filmetrics F50 自動(dòng)Mapping膜厚儀 是一臺(tái)專為產(chǎn)線和研發(fā)設(shè)計(jì)的全自動(dòng)薄膜厚度Mapping系統(tǒng)。采用高精度r-θ極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)，可在直徑450mm的樣品上快速定位任意測(cè)量點(diǎn)位，每秒完成2個(gè)點(diǎn)的厚度測(cè)試，并自動(dòng)生成直觀的2D或3D厚度分布圖。作為一臺(tái)高效率的自動(dòng)膜厚測(cè)量?jī)x，F(xiàn)50不僅支持自定義測(cè)量點(diǎn)位地圖，還能輕松應(yīng)對(duì)成千上萬(wàn)次重復(fù)測(cè)量，是半導(dǎo)體膜厚測(cè)量、光學(xué)鍍膜均勻性檢測(cè)等領(lǐng)域不可或缺的自動(dòng)膜厚測(cè)試設(shè)備。
行業(yè)認(rèn)可Filmetrics F50 基于久經(jīng)考驗(yàn)的F20系列光學(xué)膜厚測(cè)量技術(shù)，專為全自動(dòng)Mapping需求升級(jí)，已在全球眾多半導(dǎo)體和光電企業(yè)的產(chǎn)線及實(shí)驗(yàn)室中廣泛部署，成為自動(dòng)薄膜厚度檢測(cè)的標(biāo)準(zhǔn)配置之一。
產(chǎn)品特點(diǎn)
【全自動(dòng)Mapping】內(nèi)置r-θ極坐標(biāo)平臺(tái)，自動(dòng)移動(dòng)樣品進(jìn)行多點(diǎn)膜厚測(cè)量，快速獲取整片樣品的薄膜厚度分布數(shù)據(jù)，是真正的自動(dòng)化膜厚測(cè)量系統(tǒng)。
【高速高精度】掃描速度最高可達(dá)2點(diǎn)/秒，同時(shí)保持0.02nm的測(cè)量精度，兼顧了膜厚Mapping效率與數(shù)據(jù)可靠性，滿足產(chǎn)線快速膜厚檢測(cè)需求。
【2D/3D可視化】自動(dòng)生成2D或3D厚度分布圖，讓薄膜厚度均勻性一目了然，為工藝優(yōu)化提供直觀依據(jù)。
【靈活點(diǎn)位編輯】用戶可自由繪制測(cè)量點(diǎn)位地圖，支持任意位置、任意數(shù)量的測(cè)試點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)真正的薄膜厚度Mapping自由編輯。
【長(zhǎng)期穩(wěn)定可靠】配置高精度、長(zhǎng)壽命移動(dòng)平臺(tái)，設(shè)計(jì)用于成千上萬(wàn)次重復(fù)測(cè)量，穩(wěn)定性極高，適合作為產(chǎn)線在線膜厚測(cè)量設(shè)備。
測(cè)量原理
F50采用與F20相同的光反射干涉原理進(jìn)行非接觸薄膜厚度測(cè)量。入射光在薄膜上下表面反射并干涉形成振蕩光譜，通過(guò)分析光譜頻率精確計(jì)算膜厚及光學(xué)常數(shù)。在此基礎(chǔ)上，F(xiàn)50通過(guò)高精度自動(dòng)平臺(tái)移動(dòng)樣品，按預(yù)設(shè)點(diǎn)位逐個(gè)測(cè)量，最終合成整片樣品的膜厚分布圖，是光學(xué)膜厚測(cè)量技術(shù)自動(dòng)化的典型應(yīng)用。
適用薄膜類型
薄膜特性：厚度、反射率、透射率、光學(xué)常數(shù)、均勻性等
薄膜種類：透明及半透明薄膜，如氧化物、氮化物、聚合物、光刻膠、ITO等
薄膜狀態(tài)：固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)薄膜均可測(cè)量
薄膜結(jié)構(gòu)：單層膜、多層膜；平面樣品
常見(jiàn)工業(yè)應(yīng)用
半導(dǎo)體膜層 | 顯示技術(shù) | 光學(xué)鍍膜 | 派瑞林/生物醫(yī)療 |
光刻膠均勻性 | OLED膜層 | 抗反射膜 | 醫(yī)療器械涂層 |
介電層 | ITO透明電極 | 濾光片 | 電子產(chǎn)品/電路板 |
CVD/PVD鍍層 | 液晶盒厚 | 太陽(yáng)能電池 | 磁性材料 |
產(chǎn)品參數(shù)
波長(zhǎng)范圍 | 190nm-1340nm | 光源 | 鎢鹵素?zé)?、氘?/span> |
厚度測(cè)量范圍 | 5nm～2mm | 測(cè)量精度 | 0.02nm |
光斑大小 | 標(biāo)準(zhǔn)1.5mm | 樣品臺(tái)尺寸 | 1mm～300mm |
掃描速度 | 約2點(diǎn)/秒 |
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F50系列選型指南
| 型號(hào) | 厚度范圍 | 波長(zhǎng)范圍 | 典型適用場(chǎng)景 |
|---|
| F50-UV | 5nm～40μm | 190～1100nm | 超薄膜Mapping（OLED、光刻膠） |
| F50-UVX | 5nm～250μm | 190～1700nm | 寬光譜超薄膜Mapping |
| F50 | 20nm～70μm | 380～1050nm | 通用型（半導(dǎo)體、聚合物） |
| F50-EXR | 20nm～250μm | 380～1700nm | 較厚膜層Mapping（光學(xué)鍍膜） |
| F50-NIR | 100nm～250μm | 950～1700nm | 近紅外膜厚Mapping |
| F50-XT | 0.2μm～450μm | 1440～1690nm | 紅外厚膜專用 |
| F50-s1310 | 7μm～2Mm | 1280～1340nm | 超厚膜，特定材料 |
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實(shí)測(cè)數(shù)據(jù)展示
客戶評(píng)價(jià)
“F50自動(dòng)Mapping膜厚測(cè)量系統(tǒng)讓我們的晶圓薄膜均勻性檢測(cè)效率提升了近10倍。極坐標(biāo)平臺(tái)定位準(zhǔn)確，2秒一個(gè)點(diǎn)，整片晶圓幾分鐘就掃描完了，自動(dòng)生成的3D厚度分布圖非常直觀，強(qiáng)烈推薦給需要膜厚Mapping的同行?！?/span>
——某半導(dǎo)體晶圓代工廠 質(zhì)量部
“我們主要用F50做光學(xué)鍍膜的均勻性檢測(cè)，自定義測(cè)量點(diǎn)位功能非常實(shí)用，能夠針對(duì)鍍膜邊緣和中心進(jìn)行密集采樣，快速判斷整爐產(chǎn)品的膜厚一致性，已經(jīng)成為我們鍍膜工藝管控的關(guān)鍵設(shè)備?！?/span>
——某精密光學(xué)鍍膜企業(yè) 研發(fā)部
常見(jiàn)問(wèn)題 (FAQ)
F50自動(dòng)Mapping膜厚測(cè)量?jī)x是如何工作的？
F50通過(guò)r-θ極坐標(biāo)移動(dòng)平臺(tái)自動(dòng)移動(dòng)樣品，在每個(gè)用戶預(yù)設(shè)的測(cè)量點(diǎn)位上使用光反射干涉原理進(jìn)行膜厚測(cè)量，并將所有數(shù)據(jù)匯總生成2D或3D厚度分布圖，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)薄膜厚度Mapping。
F50的掃描速度是多少？可以測(cè)多大樣品？
F50掃描速度約2點(diǎn)/秒，最大可測(cè)樣品直徑達(dá)450mm。對(duì)于常規(guī)的數(shù)十點(diǎn)Mapping，幾分鐘內(nèi)即可完成整片樣品的膜厚檢測(cè)。
F50可以自定義測(cè)量點(diǎn)位嗎？
可以。用戶可在軟件中自由繪制點(diǎn)位地圖，支持任意位置和任意數(shù)量的測(cè)量點(diǎn)，實(shí)現(xiàn)完全自定義的薄膜厚度Mapping，滿足不同產(chǎn)品的檢測(cè)需求。
F50的測(cè)量精度和F20一樣嗎？
是的，F(xiàn)50繼承了F20系列0.02nm的高精度測(cè)量能力，只是增加了自動(dòng)Mapping功能，因此在精度上并無(wú)妥協(xié)，是可靠的自動(dòng)膜厚測(cè)量系統(tǒng)。
F50適合在線產(chǎn)線使用嗎？
非常合適。F50采用長(zhǎng)壽命移動(dòng)平臺(tái)，專為大批量重復(fù)測(cè)量設(shè)計(jì)，軟件可設(shè)置自動(dòng)化測(cè)量序列，非常適合半導(dǎo)體、光學(xué)鍍膜等行業(yè)產(chǎn)線的膜厚在線檢測(cè)和質(zhì)量控制。
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