Filmetrics F54-XY-200 自動(dòng)薄膜厚度測(cè)繪儀 | 200mm全自動(dòng)Mapping系統(tǒng)

Filmetrics F54-XY-200 自動(dòng)薄膜厚度測(cè)繪儀

全自動(dòng)XY樣品臺(tái) | 200mm晶圓Mapping | 光譜反射技術(shù) | 最快2點(diǎn)/秒

Filmetrics F54-XY-200自動(dòng)薄膜厚度測(cè)繪儀

4nm~120μm

厚度測(cè)量范圍(依配置)

0.02nm

測(cè)量精度

200×200mm

XY樣品臺(tái)行程

2點(diǎn)/秒

測(cè)繪速度

2~100μm

光斑尺寸(依配置)

產(chǎn)品介紹

Filmetrics F54-XY-200 自動(dòng)薄膜厚度測(cè)繪儀 是一款專為薄膜厚度分布分析設(shè)計(jì)的先進(jìn)光譜反射系統(tǒng)。采用電動(dòng)XY工作臺(tái)，可自動(dòng)測(cè)繪最大 200mm × 200mm 樣品的薄膜厚度、折射率、反射率、吸收率和表面粗糙度。系統(tǒng)搭載高階光譜反射技術(shù)與業(yè)界領(lǐng)先的 Filmetrics 算法，支持帶圖案和無(wú)圖案樣品測(cè)量，最快每秒可完成 2 個(gè)測(cè)量點(diǎn)的數(shù)據(jù)采集。F54-XY-200 提供五種波長(zhǎng)配置，覆蓋 4nm 至 120μm 的厚度測(cè)量范圍，光斑尺寸從 2μm 到 100μm 可選。適用于半導(dǎo)體晶圓、光學(xué)鍍膜、平板顯示、MEMS 等領(lǐng)域的薄膜厚度均勻性檢測(cè)與工藝監(jiān)控。

KLA Instruments

基于行業(yè)領(lǐng)先的薄膜計(jì)量技術(shù) · 支持帶圖案/無(wú)圖案樣品 · 自動(dòng)對(duì)焦與圖案識(shí)別 · 實(shí)時(shí)影像 · 板載反射率和厚度標(biāo)準(zhǔn)片

核心優(yōu)勢(shì)

全自動(dòng)XY樣品臺(tái)

電動(dòng)XY工作臺(tái)自動(dòng)移動(dòng)到預(yù)設(shè)測(cè)量點(diǎn)，支持矩形、線性、極坐標(biāo)及自定義測(cè)量模式，測(cè)量點(diǎn)數(shù)量不受限制。

高速測(cè)繪能力

最快每秒測(cè)量 2 個(gè)點(diǎn)位，即使是大面積樣品也能在短時(shí)間內(nèi)完成完整的厚度分布圖繪制。

寬量程高精度

五種配置覆蓋 4nm 至 120μm 厚度范圍，精度 0.02nm，從超薄膜到厚膜全面覆蓋。

帶圖案樣品支持

集成自動(dòng)對(duì)焦與圖案識(shí)別功能，可精確測(cè)量帶圖案晶圓或器件的指定微區(qū)位置。

實(shí)時(shí)影像與追溯

內(nèi)置集成式攝像頭提供實(shí)時(shí)影像，高級(jí)歷史記錄功能可保存、復(fù)現(xiàn)和繪制測(cè)量結(jié)果。

豐富的材料庫(kù)

全面的材料庫(kù)和高級(jí)建模算法，支持多層膜擬合及 n/k 值提取[。

適用薄膜類型

氧化物/氮化物

光刻膠/聚合物

ITO/TCO透明電極

光學(xué)鍍層(TiO?/SiO?)

非晶硅/多晶硅

半導(dǎo)體薄膜

OLED有機(jī)層

硬涂層/增透膜

生物醫(yī)學(xué)涂層

多層膜堆疊結(jié)構(gòu)

* 適用于透明、半透明及低吸收系數(shù)薄膜，支持帶圖案和無(wú)圖案樣品

測(cè)量原理

F54-XY-200 采用光譜反射法（白光干涉技術(shù)）。白光垂直照射到薄膜表面，在薄膜上下界面產(chǎn)生的反射光相互干涉，形成特征振蕩光譜。通過(guò)分析光譜的振蕩頻率與振幅，可精確計(jì)算出薄膜厚度——振蕩越密集代表膜層越厚，同時(shí)還能獲得折射率（n）、消光系數(shù)（k）等光學(xué)常數(shù)。結(jié)合電動(dòng) XY 樣品臺(tái)與自動(dòng)對(duì)焦功能，系統(tǒng)能在晶圓或面板上快速完成多點(diǎn)連續(xù)測(cè)量，構(gòu)建完整的 2D/3D 膜厚分布圖。

典型工業(yè)應(yīng)用

行業(yè)	典型應(yīng)用與膜層
半導(dǎo)體制造	晶圓氧化層/氮化硅厚度測(cè)繪、光刻膠均勻性分析、非晶硅/多晶硅膜厚測(cè)量
化合物半導(dǎo)體	GaAs、SiC 等化合物半導(dǎo)體薄膜厚度與均勻性檢測(cè)
平板顯示	ITO/TCO 薄膜面電阻關(guān)聯(lián)厚度分析、液晶間隙、聚酰亞胺、OLED 有機(jī)層厚度測(cè)繪
光學(xué)鍍膜	增透膜/高反膜多層膜厚控制、硬質(zhì)涂層厚度、濾光片鍍膜均勻性檢測(cè)
MEMS/微機(jī)電系統(tǒng)	微結(jié)構(gòu)薄膜厚度表征、器件關(guān)鍵膜層監(jiān)控
生物醫(yī)療	導(dǎo)管/支架/植入物涂層厚度測(cè)量，非接觸無(wú)損檢測(cè)

產(chǎn)品參數(shù)

產(chǎn)品型號(hào)	F54-XY-200	品牌	Filmetrics (KLA)
測(cè)量技術(shù)	光譜反射法（非接觸）	樣品臺(tái)類型	電動(dòng) XY 工作臺(tái)
樣品臺(tái)行程	200mm × 200mm	最大樣品尺寸	直徑 200mm
厚度測(cè)量范圍	4nm ~ 120μm（依配置）	測(cè)量精度	0.02nm
準(zhǔn)確度	1nm 或 0.2% 取較大者	穩(wěn)定性	0.05nm
光斑尺寸	2μm ~ 100μm（依配置）	波長(zhǎng)范圍	190nm ~ 1700nm（依配置）
測(cè)繪速度	最快 2 點(diǎn)/秒	測(cè)量功能	厚度、折射率、反射率、吸收率、表面粗糙度
軟件功能	自動(dòng)測(cè)繪模式（矩形/線性/極坐標(biāo)/自定義）、2D/3D 分布圖、SPC、多層建模、歷史記錄
標(biāo)配附件	集成式光譜儀/光源模塊、顯微鏡適配器、反射率標(biāo)準(zhǔn)片、厚度標(biāo)準(zhǔn)片
更多參數(shù)及定制配置請(qǐng)聯(lián)系優(yōu)尼康科技

F54-XY 系列選型指南

型號(hào)	厚度范圍	波長(zhǎng)范圍	典型適用場(chǎng)景
F54-XY-UV	4nm ~ 35μm	190 ~ 1100nm	超薄膜自動(dòng)化測(cè)繪（光刻膠、OLED）
F54-XY-UVX	4nm ~ 115μm	190 ~ 1700nm	寬譜多層膜、復(fù)雜堆疊結(jié)構(gòu)分析
F54-XY	20nm ~ 50μm	380 ~ 1050nm	通用型半導(dǎo)體、聚合物膜厚分布
F54-XY-NIR	100nm ~ 120μm[	950 ~ 1700nm	硅基底厚膜、TCO/ITO 層測(cè)繪

不確定選哪個(gè)型號(hào)？聯(lián)系工程師為您推薦 →

測(cè)量數(shù)據(jù)展示

典型結(jié)果：晶圓表面薄膜厚度分布圖及單點(diǎn)擬合曲線

客戶評(píng)價(jià)

“F54-XY-200 的自動(dòng)測(cè)繪功能讓我們的晶圓厚度均勻性檢測(cè)效率提升了數(shù)倍。設(shè)置好測(cè)量程序，系統(tǒng)自動(dòng)完成全部點(diǎn)位測(cè)量并生成分布圖，重復(fù)性和精度都非常出色?！?/p>

—— 半導(dǎo)體晶圓代工廠質(zhì)量工程師

“我們使用 F54-XY-200 監(jiān)控大面積 ITO 玻璃的鍍膜均勻性。軟件生成的 2D/3D 厚度圖非常直觀，幫助我們快速定位工藝偏差并優(yōu)化濺射參數(shù)，良率顯著提升?！?/p>

—— 觸控面板制造商工藝開(kāi)發(fā)部

常見(jiàn)問(wèn)題

F54-XY-200 與 F54（R-Theta 平臺(tái)）的主要區(qū)別是什么？+

F54-XY-200 采用電動(dòng) XY 工作臺(tái)，樣品臺(tái)行程 200mm×200mm，適合方形樣品或非圓形基底的自動(dòng)化測(cè)繪。標(biāo)準(zhǔn) F54 采用電動(dòng) R-Theta（極坐標(biāo)）平臺(tái)，專為直徑達(dá) 450mm 的圓形晶圓優(yōu)化設(shè)計(jì)。兩者核心測(cè)量技術(shù)相同，區(qū)別在于樣品臺(tái)類型和適用樣品形狀。

最大可以測(cè)量多大尺寸的樣品？+

F54-XY-200 標(biāo)準(zhǔn)配置樣品臺(tái)行程為 200mm × 200mm，可容納 8 英寸晶圓或相應(yīng)尺寸的方形面板。如需測(cè)量 300mm 晶圓，可選擇 F54-XY-300 或 F54-XYT-300（帶旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)）。

可以測(cè)量帶圖案的樣品嗎？+

可以。F54-XY-200 支持帶圖案和無(wú)圖案樣品的測(cè)量。系統(tǒng)配備自動(dòng)對(duì)焦和圖案識(shí)別功能，可精確定位到預(yù)設(shè)的微區(qū)測(cè)量點(diǎn)。

厚度測(cè)量范圍是多少？+

取決于具體配置。F54-XY 系列提供五種波長(zhǎng)配置，厚度范圍從 4nm 至 120μm 不等。UV 配置適合超薄膜（4nm 起），NIR 配置適合較厚膜層（可達(dá) 120μm）。具體選型可聯(lián)系工程師獲取建議。

軟件支持哪些測(cè)繪模式？+

FILMeasure 軟件支持矩形、線性、極坐標(biāo)等多種預(yù)設(shè)測(cè)繪模式，也支持用戶自定義測(cè)量點(diǎn)，測(cè)量點(diǎn)數(shù)量不受限制。測(cè)量結(jié)果可生成 2D/3D 厚度分布圖并支持 SPC 統(tǒng)計(jì)分析。

相關(guān)產(chǎn)品推薦

Filmetrics F54（R-Theta）

450mm 晶圓極坐標(biāo)自動(dòng)測(cè)繪

查看詳情 →

Filmetrics F20 光學(xué)膜厚儀

通用型單點(diǎn)膜厚測(cè)量

查看詳情 →

Filmetrics F50 自動(dòng)Mapping膜厚儀

快速均勻性分析

查看詳情 →